2013101756632：LPCVD系统排风结构

专利名称	【2013101756632】LPCVD系统排风结构					响应
声明编号	XK2025980006928	许可期限	2025-12-31	专利权人	上海微世半导体有限公司
生效日期	2025-09-02	许可费方式	无偿	支付标准	0元
联系方式	联系人姓名：杭海燕邮编：200241 地址：上海市闵行区东川路555号丙楼6212室电子邮箱：13918597298@163.com 电话：021-57156788
访问次数	5	专利权人类型		IPC分类号	C23C 16/44
备注