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专利名称 2018111495646一种氮化镓外延用硅片边缘加工工艺 响应
声明编号 XK2024980013274 许可期限 2025-06-30 专利权人 中国电子科技集团公司第四十六研究所
生效日期 2024-12-27 许可费方式 入门费+提成(提成比例) 支付标准 采用入门费和提成费相结合的方式,其中入门费为2000元,提成费按当年度合同产品净销售额的20%提取。
联系方式 联系人姓名:付旸 邮编:300000 地址:天津市河西区洞庭路 26 号 电话:13512000965   
访问次数 289 专利权人类型 科研机构 IPC分类号 H01L 21/02
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