2014108446222：量子点敏化石墨烯基介孔包覆CdSe@MT/GR可见光催化复合纳米材料及制备工艺

专利名称	【2014108446222】量子点敏化石墨烯基介孔包覆CdSe@MT/GR可见光催化复合纳米材料及制备工艺					响应
声明编号	XK2024980008419	许可期限	2025-09-27	专利权人	吉首大学
生效日期	2024-10-29	许可费方式	无偿	支付标准	免费开放许可一年。
联系方式	联系人姓名：杨晓梅邮编：416000 地址：湖南省湘西土家族苗族自治州吉首市人民南路120号电子邮箱：jdxmglk@163.com 电话：0743-8565372
访问次数	279	专利权人类型	大专院校	IPC分类号	B01J 27/057
备注