| 专利名称 |
【2022109191051】基于光刻技术的带屏蔽层金属化聚合物通孔制备方法 |
响应 |
| 声明编号 |
XK2024980010604 |
许可期限 |
2029-10-25 |
专利权人 |
桂林电子科技大学 |
| 生效日期 |
2024-11-15 |
许可费方式 |
一次付清 |
支付标准 |
采用一次总付的方式，在合同生效后7日内一次性全额支付所有使用费29500元。 |
| 联系方式 |
联系人姓名：尚玉玲 邮编：541004 地址：广西壮族自治区桂林市七星区金鸡路1号 电子邮箱：syl@guet.edu.cn 电话：13978392613 |
| 访问次数 |
293 |
专利权人类型 |
大专院校 |
IPC分类号 |
H01L 21/768 |
| 备 注 |
|
