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专利号 2025107912105 申请日 2025-06-13 专利名称 一种氧硫双空位修饰的SnO2/SnS2/C纳米材料及其制备方法和应用
授权日 2025-08-22 专利权人 齐鲁理工学院 发明人 孔震;张浩浩;安娟;庞明远;杨敏;范贵康;沈雨晴
主分类号 C01G19/02 关键词 应用领域
摘要 本发明公开了一种氧硫双空位修饰的SnO2/SnS2/C纳米材料及其制备方法和应用,属于电极材料技术领域。将结构调控剂与锡盐混合,滴加碱液并搅拌,抽滤得到Sn6O4(OH)4;将葡萄糖和聚乙烯吡咯烷酮加入蒸馏水中,搅拌形成均一溶液,将Sn6O4(OH)4加入均一溶液中并搅拌,超声,水热反应得到SnO2/glucose;将SnO2/glucose与硫源在惰性气氛下煅烧得到氧硫双空位修饰的SnO2/SnS2/C纳米材料。本发明的SnO2/SnS2/C用于锂/钠离子电池负极,能有效缓解锡基氧硫化物的体积膨胀,提高电极材料导电性,且表现出高充放电比容量、优异的倍率性能和大倍率长循环稳定性能。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
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【关 闭】