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专利号 2024104389188 申请日 2024-04-12 专利名称 一种具有Si掺杂金刚石改质层的复合衬底及半导体器件
授权日 2024-07-23 专利权人 山东大学 发明人 左致远;李筱璇;段学艺;康汝燕;周戬;王晓杉
主分类号 H01L21/04 关键词 应用领域
摘要 本发明属于半导体制造技术领域,具体涉及一种具有Si掺杂金刚石改质层的复合衬底及半导体器件。复合衬底的制备方法,包括以下步骤:S1、使用气相化学沉积在金刚石衬底表面生长Si掺杂金刚石改质层;S2、对Si掺杂金刚石改质层进行高温激活;S3、对高温激活后的Si掺杂金刚石改质层进行加工,得到具有Si掺杂金刚石改质层的复合衬底。进一步在复合衬底的Si掺杂金刚石改质层表面低温键合半导体材料即得半导体器件。本发明通过在金刚石衬底表面生长Si掺杂金刚石改质层,整合金刚石衬底的高热导率与Si的亲水性特性,不仅显著增强了散热性能,也在提升材料界面的结合强度和键合效率方面取得了突破。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新一代信息技术    电子核心产业
运营方式 合作方式
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