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专利号 2018101463884 申请日 2018-02-12 专利名称 一种内延生长[153]取向Ta3N5自支撑薄膜的制备方法
授权日 2020-04-24 专利权人 山东大学 发明人 黄柏标;李慧亮;王泽岩;张晓阳;秦晓燕;王朋;刘媛媛;张倩倩
主分类号 C30B29/38 关键词 应用领域
摘要 本发明公开了一种内延生长[153]取向Ta3N5自支撑薄膜的制备方法,包括如下步骤:将清洗后的[100]取向KTaO3单晶晶片放入炉内,在CCl4和NH3的混合气氛中煅烧设定时间后,制得自支撑的[153]取向Ta3N5薄膜。可以解决现有技术中Ta3N5无法制备为取向结构,以及无法获得自支撑薄膜,而抑制了钽基氮化物的应用的技术问题。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
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【关 闭】