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专利号 202411782413X 申请日 2024-12-05 专利名称 具有超宽禁带宽度的氧化钆单晶薄膜及其制备方法与应用
授权日 2025-08-29 专利权人 山东大学 发明人 栾彩娜;肖洪地;张彪;马瑾;吴思齐
主分类号 C30B29/16 关键词 应用领域
摘要 本发明涉及一种具有超宽禁带宽度的氧化钆单晶薄膜及其制备方法与应用,Gd2O3单晶薄膜是立方结构的外延单晶薄膜,生长晶面是Gd2O3的(222)和/或(444),薄膜生长的外延关系Gd2O3(111)//GaN(0001)与脉冲激光沉积采用工业级准分子激光器,激光波长为248nm,激光猝发长度20ns,激光点面积:0.05cm2。本发明的Gd2O3薄膜在可见光区的反射图谱显示在230nm‑700nm范围内反射率低于20%,薄膜的光学带隙为5.30eV‑5.55eV,是一种优异的宽禁带氧化物半导体候选材料。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
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【关 闭】