| 专利号 | 2025107496896 | 申请日 | 2025-06-06 | 专利名称 | 近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统 |
| 授权日 | 2025-08-01 | 专利权人 | 齐鲁工业大学(山东省科学院) | 发明人 | 张玉瑾;吴胜;胡伟;赵丽云;张静 |
| 主分类号 | G16C10/00 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估方法及系统，涉及荧光探针技术领域，包括：构建近红外二区荧光分子聚集体的结构，并选取聚集体内的多个代表性构象，建立包括高层区域和低层区域的分层计算模型；对多个代表性构象进行结构优化得到其稳定构型，进一步进行激发态计算，获取各代表性构象的跃迁能量参数和跃迁偶极矩参数；结合跃迁参数和代表性构象数计算近红外二区荧光分子聚集体的综合考量因子；根据综合考量因子评估近红外二区荧光分子聚集体的光吸收强度。本发明显著提升近红外二区荧光分子聚集体光吸收强度评估的效率，为高性能近红外二区荧光分子聚集体的性能优化及实验设计提供重要的理论支持与科学依据。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新一代信息技术 新兴软件和新型信息技术服务 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
