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专利号 2021106639682 申请日 2021-06-16 专利名称 一种中空结构的Ni-Co-S纳米多面体材料及其制备与应用
授权日 2023-01-10 专利权人 济南大学 发明人 徐锡金;李娜;渠广猛;张习习;赵顺顺
主分类号 C01G53/00 关键词 应用领域
摘要 本发明公开了一种中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体材料及其制备与应用,其中所述制备包括以ZIF‑67的Ni‑Co双金属氢氧化物的前驱体为原料,经硫化制得中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体的过程,其制备成本低、可简单便捷的制备出中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体。所得中空结构的Ni‑Co‑S纳米多面体材料具有良好的导电性及比电容保持率,特别适于用作自支撑电极材料。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
联系人 联系电话 电子邮箱
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【关 闭】