| 专利号 | 2016108081241 | 申请日 | 2016-09-07 | 专利名称 | 一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法 |
| 授权日 | 2017-11-07 | 专利权人 | 山东科技大学 | 发明人 | 王清;张睿;郑旭;马立俊;张艳菊;张星远;杜文全 |
| 主分类号 | G02B1/00 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基于反转压印纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法，其采用电子束光刻技术和反应离子刻蚀技术，按预先设计的光子晶体结构参数，刻蚀出具有纳米量级图案的刚性模板作为母模板，以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板，并将其作为二次模板；以高弹性凝胶作为填充材料、粘弹性聚合物作为成型材料，通过反转压印的方式，将母模板上的图案“高保真”地“复制”到粘弹性聚合物中；进而制得纳米量级的、结构可控的具有力响应性的光子晶体。本发明的制备方法相对于现有技术，具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制，模板可重复使用，产品精度等级高、质量稳定可靠，成本较低等特点。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 前沿新材料 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
