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专利号 2022114854280 申请日 2022-11-24 专利名称 一种AlN单晶生长过程中低埚位防沉积的方法
授权日 2024-10-22 专利权人 山东大学 发明人 王国栋;曹文豪;张雷;俞瑞仙;王守志;徐现刚
主分类号 C30B23/00 关键词 应用领域
摘要 本发明属于氮化铝晶体生长技术领域,具体涉及一种AlN单晶生长过程中低埚位防沉积的方法。本发明通过温场模拟设计了与坩埚尺寸相匹配的钨锥,所述钨锥由下方的圆柱部件和上方的圆台部件构成,所述圆柱部件底部半径与所述圆台部件的底部半径相同;所述钨锥高度为坩埚高度的2/5‑3/5,所述圆柱部件高度为坩埚高度的1/5‑1/4。将钨锥设置在坩埚底部中心位置,并将AlN原料填充于钨锥与坩埚之间,避免坩埚底部中心温度相对较低的区域与AlN粉料相接触,防止底部原料在坩埚底部中心位置沉积,使得坩埚便于清理,减少了原料浪费;本发明通过上述方法使得AlN原料放置于坩埚内部的高温区内,提高了原料的利用率。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
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【关 闭】