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专利号 2020100665301 申请日 2020-01-20 专利名称 一种氧化钨单层纳米片及其制备方法与应用
授权日 2021-03-30 专利权人 山东大学 发明人 侯万国;王德良;李海平;杜娜
主分类号 C01G41/02 关键词 应用领域
摘要 本发明提供一种氧化钨单层纳米片及其制备方法与应用。本发明方法包括步骤:钨酸根或偏钨酸根阴离子插层LDHs复合物的制备;钨酸根或偏钨酸根阴离子插层LDHs复合物于200‑600℃下煅烧1‑4h,得WO3/MMO复合物;然后加入酸中,室温搅拌10‑15h,经过滤、洗涤、干燥得WO3·H2O单层纳米片。所获得的WO3·H2O单层纳米片可进一步于300‑450℃下低温煅烧0.5‑2h获得WO3单层纳米片。本发明制备方法操作简单、环境友好、易于工业化;所得氧化钨纳米片中的单层占比率高,解决了氧化钨单层纳米片大规模制备的技术难题;所制备得到的氧化钨纳米片具有良好的电催化析氢性能。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
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【关 闭】