| 专利号 | 2022116366101 | 申请日 | 2022-12-12 | 专利名称 | 一种超薄钯基纳米片的通用性制备方法 |
| 授权日 | 2025-04-18 | 专利权人 | 青岛科技大学 | 发明人 | 王磊;董泽萌;徐广蕊 |
| 主分类号 | B22F9/24 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种超薄钯基纳米片的通用性制备方法，该方法以乙二醇和N‑N二甲基甲酰胺(DMF)为溶剂，采用简单的溶剂热法将钯离子以及其他金属离子还原为形状规则、尺寸均一的超薄钯基纳米片。本发明制得的钯基纳米片具有独特的二维结构、较大的表面积及丰富的活性中心，增强了对氮气的吸附能力，降低了氮气在其表面的还原反应势垒，在氮气还原反应过程中具有很好的应用前景。本发明关于超薄钯基纳米片的制备方法简单、经济，适合工业化大规模生产。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 前沿新材料 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
