| 专利号 | 2024117908968 | 申请日 | 2024-12-06 | 专利名称 | 一种高韧性NDI基荧光聚脲的制备方法 |
| 授权日 | 2025-12-09 | 专利权人 | 青岛科技大学 | 发明人 | 高传慧;李鹏程;陈丕成;赵洪喆;刘泽林;刘月涛 |
| 主分类号 | C08G18/76 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明属于聚合物制备领域，具体涉及一种高韧性NDI基荧光聚脲的制备方法，该聚脲以NDI、聚醚胺、TEPA以及IPDI为原料，利用异氰酸酯与氨基的快速反应，使得NDI与聚醚胺及TEPA可在温和的条件下构建主链，利用二异氰酸酯与仲胺的反应，使主链交联，氢键与共价键断裂能的差异形成梯度能量耗散机制，大幅提高材料的韧性，且氢键与共价键交联限制平面刚性共轭结构的“运动”，非辐射跃迁减弱，辐射跃迁增强，有利于荧光特性增强。本发明所述高韧性荧光聚脲制备方法新颖，制得的聚脲具有超高韧性及荧光特性，且本发明所选用原料成本较低，具有广阔的市场前景。步骤简单、操作方便、实用性强。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 先进无机非金属材料 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
