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专利号 2020100075501 申请日 2020-01-04 专利名称 一种氟氧化钽纳米片的制备方法
授权日 2022-05-20 专利权人 山东理工大学 发明人 李俐;耿欣;温广武;邱鹏程;杨玉茹
主分类号 C01G35/00 关键词 应用领域
摘要 本发明提供一种TaO2F纳米片的制备工艺,属于纳米材料制备技术领域;具体涉及以(NH4)2Ta2O3F6作为先驱体的热处理方法。其特征在于:将通过水热法合成的(NH4)2Ta2O3F6纳米粉体作为先驱体;(1)在空气(含氧气)氛围下,以1~100℃/min升温速率升至350~500℃,并保温0.5~5小时;或是(2)在氩气氛围(惰性无氧气气氛)下,以1~10℃/min升温速率升至350~700℃,并保温0.5~5小时,即可得到TaO2F纳米片;在光催化和电催化领域具有极大的应用潜力。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
联系人 联系电话 电子邮箱
详细说明
【关 闭】