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专利号 2022102215271 申请日 2022-03-09 专利名称 一种高掺杂均匀性p型SiC的生长方法
授权日 2024-06-11 专利权人 山东大学 发明人 陈秀芳;仲光磊;谢雪健;彭燕;杨祥龙;胡小波;徐现刚
主分类号 C30B23/00 关键词 应用领域
摘要 本发明涉及一种高掺杂均匀性p型SiC的生长方法,该方法首先制备含掺杂元素的SiC晶粒或SiC多晶块,通过SiC晶粒或多晶块锁住掺杂元素法来实现掺杂元素的均匀持续释放,密封掺杂元素的SiC晶粒或多晶块作为生长源,可极大的提高掺杂元素在晶锭轴向和径向上掺入的均匀性,得到p型SiC,减缓生长过程掺杂元素的掺入不均匀性,提高晶体质量。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
联系人 联系电话 电子邮箱
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【关 闭】