| 专利号 | 2016100712433 | 申请日 | 2016-02-01 | 专利名称 | 一种由磁控溅射制备纳米多孔铜薄膜材料的方法 |
| 授权日 | 2018-03-27 | 专利权人 | 山东大学 | 发明人 | 司鹏超;孙挥 |
| 主分类号 | C23C14/35 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种由磁控溅射制备纳米多孔铜薄膜的方法，所述方法使用商业铜箔为基体材料，以高纯铜靶材铝靶材为溅射材料，磁控溅射设备为制备工具，通过辉光放电原理，溅射铜铝薄膜，在退火合金化后，脱合金腐蚀去掉活泼性组元铝得到纳米多孔铜薄膜。本发明所述方法为二步反应法，其克服了现有技术中利用合金配料熔炼、球磨、甩带所存在的步骤复杂、耗时长的问题，简化了制备工艺步骤；不仅仅是得到纳米多孔铜的纳米多孔结构，而薄膜大小可控，优于传统方法得到的纳米多孔铜粉末样品，进一步提高了纳米多孔铜的应用范围，并且具有商业化的前景。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 先进有色金属材料 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
