| 专利号 | 2023110250229 | 申请日 | 2023-08-15 | 专利名称 | 一种利用超声空化技术合成金属Ga缓冲层制备低应力金刚石膜的方法 |
| 授权日 | 2025-11-11 | 专利权人 | 山东大学 | 发明人 | 刘铎;韩素芹;李浩然;闫彪;杜运超 |
| 主分类号 | C23C16/27 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种利用超声空化技术合成金属Ga缓冲层制备低应力金刚石膜的方法，包括步骤如下：将液体金属镓加入乙醇中，进行超声处理，之后静置取上清液，得到液态金属镓纳米颗粒悬浮液；将所得液态金属镓纳米颗粒悬浮液旋涂于衬底上，干燥后，在衬底上沉积Ga缓冲层；采用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)工艺，在Ga缓冲层上进行金刚石膜的生长，得到低应力金刚石膜。本发明首先在衬底上制备了Ga缓冲层，之后进行金刚石膜的生长，本发明的方法可以有效降低金刚石膜的残余应力，防止金刚石膜由于热应力导致的翘曲、断裂等问题，为缓冲层材料的制备探索出了一种新的方法。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 先进无机非金属材料 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
