| 专利号 | 2021114186129 | 申请日 | 2021-11-26 | 专利名称 | 一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用 |
| 授权日 | 2024-08-02 | 专利权人 | 山东大学 | 发明人 | 汤紫成;康文兵;陈欢;赵莉苹 |
| 主分类号 | G03F7/039 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用，所述正性光刻材料是通过将单宁酸依次与二碳酸二叔丁酯和甲基丙烯酰氯进行接枝反应得到，之后采用上述正性光刻材料为主要成分制备得到光刻胶体系，使用该光刻胶体系进行光刻‑化学镀过程制备得到了微纳电路，所得到的微纳电路，分辨率高，导电性优良。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 先进石化化工新材料 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
