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专利号 202210750984X 申请日 2022-06-28 专利名称 一种VO2@Mg1.5VO4多孔薄膜及其制备方法和用途
授权日 2023-10-20 专利权人 济南大学 发明人 蒋绪川;徐慧妍;郭小丹;王尚;聂永
主分类号 C01G31/02 关键词 应用领域
摘要 本发明提供一种VO2@Mg1.5VO4多孔薄膜及其制备方法和用途,属于VO2薄膜制备领域。本发明的制备方法包括:(1)将钒源、还原剂分散到溶剂中,加热回流得到钒前驱体溶胶;(2)将镁源加入到步骤(1)所得钒前驱体溶胶中,搅拌;(3)将步骤(2)处理得到的产物旋涂成薄膜;(4)将步骤(3)所得薄膜在真空下进行退火处理,即得VO2@Mg1.5VO4多孔薄膜。本发明的制备方法能成功得到VO2@Mg1.5VO4多孔薄膜,不仅实现VO2纳米颗粒彼此独立分布,而且非晶Mg1.5VO4外壳将其与外界隔绝提高稳定性,同时提高其光学性能和稳定性。
创新点
技术分类 标 签 战兴产业 新材料产业    先进无机非金属材料
运营方式 合作方式
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【关 闭】