| 专利号 | 2024116331050 | 申请日 | 2024-11-15 | 专利名称 | 一种具有纳米结构内壁的阵列微孔SERS基底制备方法 |
| 授权日 | 2025-02-07 | 专利权人 | 山东理工大学 | 发明人 | 李政凯;唐佳静;王昊;戴鹏飞;姬忠帅;郝劲松;刘宪福 |
| 主分类号 | G01N21/65 | 关键词 | 应用领域 | ||
| 摘要 | 本发明属于SERS基底制备技术领域，具体涉及一种具有纳米结构内壁的阵列微孔SERS基底制备方法，步骤包括分析光在具有纳米结构内壁的微孔中的传播方式以及微孔尺寸与光捕获能力之间的相关性；在SERS基底材料表面构建微孔单元，微孔的底部和侧壁形成凹坑堆叠的纳米级粗糙表面；通过高一致性精度控制，在SERS基底材料表面形成N×N的阵列微孔结构；在阵列微孔结构表面溅射一层金膜；进行吸光度测试；通过拉曼光谱评估SERS活性；得到该SERS基底的最小痕量检测极限，完成对SERS基底的制备。本发明应用阵列微孔与纳米结构的同步构筑，使SERS基底具有陷光作用，提高了基底表面对测试用激发激光束的利用率。 | ||||
| 创新点 | |||||
| 技术分类 | 标 签 | 战兴产业 | 新材料产业 新材料相关服务 | ||
| 运营方式 | 合作方式 | ||||
| 联系人 | 联系电话 | 电子邮箱 | |||
| 详细说明 | |||||
