| 专利名称 |
【2024117262823】一种质能异步沉积的低缺陷密度薄膜材料制备装置及方法 |
响应 |
| 声明编号 |
XK2026980003549 |
许可期限 |
2028-05-18 |
专利权人 |
武汉理工大学 |
| 生效日期 |
2026-06-19 |
许可费方式 |
一次付清 |
支付标准 |
采用一次总付的方式，在合同生效后7日内一次性全额支付所有使用费15000元。 |
| 联系方式 |
联系人姓名：詹萍武 邮编：430070 地址：湖北省武汉市洪山区珞狮路122号 电子邮箱：84474312@qq.com 电话：027-87650178 |
| 访问次数 |
6 |
专利权人类型 |
高校院所 |
IPC分类号 |
C23C 14/02 |
| 备 注 |
|
